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Introducción
Con avances rápidos en la teoría de láser de semiconductores, los materiales, los procesos de fabricación y las tecnologías de envasado, junto con mejoras continuas en la potencia, la eficiencia y la vida útil, los láseres de semiconductores de alta potencia se utilizan cada vez más como fuentes directas o de bomba de luz. Estos láseres no solo se aplican ampliamente en el procesamiento de láser, los tratamientos médicos y las tecnologías de visualización, sino que también son cruciales en la comunicación óptica del espacio, la detección atmosférica, el reconocimiento de LiDAR y el objetivo. Los láseres semiconductores de alta potencia son fundamentales en el desarrollo de varias industrias de alta tecnología y representan un punto competitivo estratégico entre las naciones desarrolladas.
Láser de matriz apilada de semiconductores de múltiples picos con colimación de eje rápido
Como las fuentes de bomba de núcleo para láseres de estado sólido y fibra, los láseres de semiconductores exhiben un cambio de longitud de onda hacia el espectro rojo a medida que aumentan las temperaturas de trabajo, típicamente en 0.2-0.3 nm/° C. Esta deriva puede conducir a un desajuste entre las líneas de emisión de los LDS y las líneas de absorción de los medios de ganancia continua, disminuyendo el coeficiente de absorción y reduciendo significativamente la eficiencia de salida del láser. Por lo general, los sistemas de control de temperatura complejos se utilizan para enfriar los láseres, lo que aumenta el tamaño y el consumo de energía del sistema. Para satisfacer las demandas de miniaturización en aplicaciones como la conducción autónoma, el rango de láser y Lidar, nuestra compañía ha introducido la serie de matriz apilada de múltiples picos, LM-8XX-Q4000-F20-P0.73-1. Al expandir el número de líneas de emisión de LD, este producto mantiene la absorción estable por el medio de ganancia continua en un amplio rango de temperatura, reduciendo la presión sobre los sistemas de control de temperatura y disminuyendo el tamaño y el consumo de energía del láser al tiempo que garantiza una alta potencia de energía. Aprovechando los sistemas avanzados de prueba de chips desnudos, la unión de coalescencia al vacío, la ingeniería de materiales y fusiones de interfaz, y la gestión térmica transitoria, nuestra compañía puede lograr un control preciso de múltiples picos, alta eficiencia, gestión térmica avanzada y garantizar la confiabilidad a largo plazo y la vida útil de nuestros productos de matriz.

Figura 1 LM-8XX-Q4000-F-G20-P0.73-1 Diagrama de producto
Características del producto
La emisión controlable de múltiples picos como fuente de bomba para láseres de estado sólido, este producto innovador se desarrolló para expandir el rango de temperatura de funcionamiento estable y simplificar el sistema de gestión térmica del láser en medio de tendencias hacia la miniaturización láser semiconductora. Con nuestro sistema avanzado de prueba de chips desnudos, podemos seleccionar con precisión las longitudes de onda y la potencia de la barra, lo que permite el control sobre el rango de longitud de onda del producto, el espacio y múltiples picos controlables (≥2 picos), lo que amplía el rango de temperatura operativa y estabiliza la absorción de la bomba.

Figura 2 LM-8XX-Q4000-F-G20-P0.73-1 Espectrograma de producto
Compresión de eje rápido
Este producto utiliza lentes microópticas para la compresión del eje rápido, adaptando el ángulo de divergencia del eje rápido según los requisitos específicos para mejorar la calidad del haz. Nuestro sistema de colimación en línea de eje rápido permite el monitoreo y ajuste en tiempo real durante el proceso de compresión, asegurando que el perfil de manchas se adapte bien a los cambios de temperatura ambiental, con una variación de <12%.
Diseño modular
Este producto combina precisión y practicidad en su diseño. Caracterizado por su apariencia compacta y aerodinámica, ofrece una alta flexibilidad en el uso práctico. Su estructura robusta y duradera y componentes de alta confiabilidad aseguran un funcionamiento estable a largo plazo. El diseño modular permite la personalización flexible para satisfacer las necesidades del cliente, incluida la personalización de la longitud de onda, el espacio de emisiones y la compresión, lo que hace que el producto sea versátil y confiable.
Tecnología de gestión térmica
Para el producto LM-8XX-Q4000-F-G20-P0.73-1, utilizamos materiales de conductividad térmica alta coincidentes con el CTE de la barra, asegurando la consistencia del material y una excelente disipación de calor. Los métodos de elementos finitos se emplean para simular y calcular el campo térmico del dispositivo, combinando efectivamente simulaciones térmicas transitorias y de estado estacionario para controlar mejor las variaciones de temperatura.

Figura 3 Simulación térmica del producto LM-8XX-Q4000-F-G20-P0.73-1
Control de procesos Este modelo utiliza tecnología tradicional de soldadura de soldadura dura. A través del control del proceso, garantiza una disipación de calor óptima dentro del espaciado del conjunto, no solo mantiene la funcionalidad del producto, sino que también garantiza su seguridad y durabilidad.
Especificaciones del producto
El producto presenta longitudes de onda de múltiples picos controlables, tamaño compacto, peso ligero, alta eficiencia de conversión electroóptica, alta confiabilidad y larga vida útil. Nuestro último láser de barra de matriz apilada de semiconductores múltiples, como láser de semiconductores de varios picos, asegura que cada pico de longitud de onda sea claramente visible. Se puede personalizar con precisión de acuerdo con las necesidades específicas del cliente para los requisitos de longitud de onda, el espacio, el recuento de barras y la potencia de salida, lo que demuestra sus funciones de configuración flexibles. El diseño modular se adapta a una amplia gama de entornos de aplicación, y diferentes combinaciones de módulos pueden satisfacer varias necesidades de los clientes.
Número de modelo | LM-8XX-Q4000-F-G20-P0.73-1 | |
Especificaciones técnicas | unidad | valor |
Modo de funcionamiento | - | QCW |
Frecuencia operativa | Hz | 20 |
Ancho de pulso | us | 200 |
Espaciado de barra | mm | 0. 73 |
Potencia máxima por barra | W | 200 |
Número de barras | - | 20 |
Longitud de onda central (a 25 ° C) | nm | A: 798 ± 2; B: 802 ± 2; C: 806 ± 2; D: 810 ± 2; E: 814 ± 2; |
Ángulo de divergencia de eje rápido (FWHM) | ° | 2-5 (típico) |
Ángulo de divergencia del eje lento (FWHM) | ° | 8 (típico) |
Modo de polarización | - | TE |
Coeficiente de temperatura de longitud de onda | nm/° C | ≤0.28 |
Corriente operativa | A | ≤220 |
Corriente umbral | A | ≤25 |
Voltaje de funcionamiento/barra | V | ≤2 |
Eficiencia de pendiente/barra | WASHINGTON | ≥1.1 |
Eficiencia de conversión | % | ≥55 |
Temperatura de funcionamiento | ° C | -45 ~ 70 |
Temperatura de almacenamiento | ° C | -55 ~ 85 |
Lifetime (disparos) | - | ≥109 |
Los valores típicos de los datos de prueba se muestran a continuación:

Tiempo de publicación: mayo-10-2024